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第66部分（第2页）

国内当前的光刻机，还采用的是六十年代的接触式光刻机，在移动掩膜时，不留心就会碰触到光刻胶。而掩膜上哪怕是出现一个极其细微的损伤，都将给接下来的集成电路制造，带来无可估量的严重后果。

在此之外，国内现在的光刻机紫光照射，是通过透镜聚焦于一点，对局部电路进行光刻之后，再对另一个局部电路进行光刻处理。对比国外已经流行的伺服电机驱动、紫外光聚焦点对掩膜电路进行扫描式曝光，国内的光刻效率非常低下。

郭逸铭没有兴趣跟在外国人屁股后面，亦步亦趋。

他亲自动手设计，将原来接触式光刻平台，上移之后，通过光学作用，将透镜凝缩的聚焦点，扩张放大后再缩为一条线。

通过步进电机，精密驱动紫外光前后移动，变换曝光位置。

这可不是什么扫描式光刻机，而是后世才逐渐成熟，比扫描式光刻机更先进的步进扫描式光刻机。

这种光刻机，通过调整透镜距离，将原来点状的紫外光聚焦放大为覆盖到单晶硅边缘的条状曝光区。这样就可以一次性实现对整条区域内电路的照射曝光，一下子就将光刻效率提升数十倍，既加快了制造效率，又节约了成本，可谓是一举数得。

为了尽快完成对设备的改造工作，他们一直从80年11月，忙到了81年的3月下旬。

整整五个多月的时间，他们没有一天的休息时间。

为了节约每一份每一秒，尽管材料所就在马路对面，董老他们仍舍不得浪费这么一点点时间。所有参与技术攻关的人员，吃住都在行政楼内，稍微有一点空闲，他们也用来分析、讨论、研究如何对设备进行自动化改造。有好几次都已经深更半夜了，脑子里忽然有了某个思路的董老等人，也爬起来，心急火燎地敲开郭逸铭的房门，与他就此展开论证。

就这样，他们日以继夜的投入到改造工作中，所有人都忙得人不像人、鬼不像鬼，每天一直要忙到最后一丝精力都被榨干才精疲力尽投入梦乡。他们忙得连打理个人卫生的时间都没有，只有利用在进洁净车间经过必须洗漱程序时匆匆洗漱一下。

就这样，一直忙到81年3月23日，第一套完整的半导体制造设备终于装配完成。

设备的安装、调试工作也是一个需要非常小心的活。

高精密的设备，对工作环境的要求也是同样苛刻无比。这个时候，就显出了何师傅等人的本事，他们仅靠着肉眼观察、光影判断，就能精确判断出设备的倾斜角度是否符合要求，其精确率，丝毫不亚于上海厂几位拿着测试设备随时观测的工程师，且做出判断的速度，比他们摆放设备，从各个角度反复测量还来得快！

安装调试工作又用了将近一个月时间，4月17日，设备正式启用，进入试运行。

这是一个足以载入中美电子研究所史册的日子，当天，所有得知消息的研究、行政、工人全都放下了手头的活，聚到了处理器洁净厂房外。虽然他们不能进去，什么也看不到、听不到，但所有人都不肯离去，都默默地等在门口。

几位曾在无线电一所等好几家重点科研单位，从事了数十年半导体制造设备操作，多次荣获先进工作者、劳动模范称号的老技术人员，纷纷各就就位。

严格的设备运行前检查工作，在郭逸铭全体研发人员的瞩目下，一丝不苟地进行着。

他们在前期设备研制改造过程中，就全程参与其中，一些具体操作要领还是源于他们的建议，各种操作流程已经是铭记于胸。在这次开机测试前，他们向郭逸铭拍着胸口保证，哪怕是闭着眼睛，他们也会按照规范要求，圆满地完成设备操作，绝不会出任何纰漏。

郭逸铭相信他们能够说到做到。

尺寸1：1掩膜版早已制造完成，一共准备了12块掩膜版，这一点在工艺上并无特大改进。在操作员控制下，自动上胶机飞速转动，缓缓接近单晶硅衬底，飞快地旋转而过，一层光刻胶就匀称的涂抹到了单晶硅衬底上。

操作员对其厚度、均匀程度检测以后，向郭逸铭他们挑起了大拇指。

一阵轻微的欢笑声，在人群中响起，随即便迅速重归宁静，未到试运行结束，谁也不敢有丝毫放松。

涂抹了光刻胶的衬底，被送进烘焙炉中进行烘焙，使光刻胶干硬成型，并完成内部形变，之后自动进行退火处理。

操作员用操作钳夹出操作盘中，将硬化后的单晶硅衬底送到相邻的另外一个净洁室内。这里，负责操作光刻机的技术人员已经完成了光刻机的预操作，掩膜版盒也已安装到位，见到呈放单晶硅衬底的操作盘传送过来，低头再次检查了一下光刻胶涂抹情况之后，用带着防护手套的手，打开光刻机舱门，小心翼翼将操作盘放置入内，仔细检查之后，关上舱门。

他回到控制位，按工艺流程，快速地在控制仪表盘上进行各项操作：释放掩膜版盒、锁定、选择掩膜版编号、控制所需编号掩膜版放下、输入曝光率、焦深、能量输出强度等各项数据，并通过显示屏核对输入是否正确。一切确认无误，他按动启动开关，机器声轻微嗡鸣，光刻机开始自动工作。

光刻部分，这个流程是在光刻机内部完成，所有人都看不到具体过程，只能默默等待。