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第585章（第2页）

光刻胶为光刻机的一项重要材料，而光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。

第512章研究经费

对于光刻胶的发展，目前可以分为四个阶段，ktfr光刻胶、g线i线光刻胶、krf光刻胶以及arf光刻胶。

arf光刻胶是世界最新的光刻胶技术，它继承了krf光刻胶的基础，也属于化学放大光刻胶。

半导体工艺开发联ic正式将arf光刻胶用作两千年下一代半导体013μ工艺的抗蚀剂。

只是相对于世界前沿的光刻胶技术，华夏的光刻胶发展简直称得上可怜。

华夏光刻胶的研究始于六七十年代，六七年的时候，华夏kpr型负性光刻胶就已经投产。

七零年，103b型、106型两种负胶投产，环化橡胶系负胶bn-302、bn-303也相继开发成功。

当时华夏的技术虽然比不上美国，但与日本研究时间相同，技术水平也相差无几。

只是之后因为种种原因，差距越来越大。

现在产品已经发展到arf光刻胶阶段，而国内还在ktfr光刻胶阶段，后续研究一直停滞，相差三代。

这不仅仅是因为资金不够的原因，更大程度是因为电子行业与军事紧密相关，国外技术封锁，很难交流。

现在电子工业发展迅速，而华夏芯片的劣势也越来越明显，就靠着一些企业自己研究发展，进展缓慢，所以，政府想要重启光刻胶的研究。

江小溪听到这里，作为重生的人自然知道光刻机，一直到2020年，华夏的高端芯片依旧受制于人，而半导体工业中，下游设计已经迎头赶上，处于世界第一梯队，而上游设备和材料领域却依旧落后。

以光刻胶为例，国外g线i线光刻胶七十年代投产，krf光刻胶八十年代投产，现在arf光刻胶两千年投产。

可是华夏呢，2020年的时候，光刻胶企业仅有北京科华微电子的krf光刻胶可以量产供应，与国外有着将近四十年的差距。

好在现在研发虽然不是最优的时候，但是也不晚，两千年只是一个开始，现在着手还来得及。

方主任把大概情况介绍完了，看到江小溪一直在沉思，他没有立刻询问江小溪，而是喝起茶来，让江小溪好好想一想。

路院长看着两个人不说话了，他和费院士其实是有些着急的，因为光刻胶这个项目已经封尘很多年了，就算有研究也因为经费问题很难继续，而现在时间紧迫，要是再不重启，那真的就晚了。

路院长等了一阵子，看着江小溪还在发呆，又转头看看方主任依旧在喝茶，喝喝喝，都喝了好几杯了。hr

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